Flachbildschirme: Metallisierung von Glassubstraten
Neuere Entwicklungen im Flachbildschirmbereich stellen höhere Leistungsanforderungen an die elektronischen Treiberschaltungen und die zugehörigen Leiterstrukturen. Dem kann durch Verwendung neuer Materialien und angepasster Beschichtungsprozesse Rechnung getragen werden.
Atotech entwickelt nasschemische Prozesse zur Metallisierung von Transistorleiterbahnen. Neben technologischen (höhere Leitfähigkeit) und ökonomischen (Ersatz von kostenintensiven Sputter- und CVD-Verfahren) Aspekten spielt dabei der Umwelt- und Gesundheitsschutz (Ausschluss von Formaldehyd, Verwendung biologisch abbaubarer Komplexbildner) eine wichtige Rolle.
Überblick über Substrate, für die nasschemische Beschichtungsverfahren getestet wurden:



