PhotoResist Stripping

Die heute in der Industrie gängigen Leiterbahnbreiten und Abstände stellen immer höhere Anforderungen an die Resist Stripping Technologie.

Herkömmliche Striplösungen haben gewöhnlich Probleme mit dem Entfernen von Resist bei überbauten Leiterbahnen.
Alle Atotech ResistStrip Serien wurden entwickelt, um das übermäßige Quellen des Resists im Resistkanal zu minimieren.

Zusätzlich wird bei den Produkten aus den Atotech ResistStrip Serien eine hohe Metallkorrosion vermieden. Dies kann bei herkömmlichen Striplösungen zu Zinntransfer und dadurch zu Problemen beim alkalischen Ätzprozess führen.

ResistStrip

Dank der großen Anzahl an Atotechs ResistStrip Produkten bieten wir Resist Strip Lösungen für jede Anwendung. Diese Produkte basieren auf modifizierten Hydroxid- und Aminlösungen, um ein verbessertes Stripergebnis mit minimaler Metallkorrosion zu garantieren.

ResistStrip IC-1

ResistStrip IC-1 ist die neueste Entwicklung für das Strippen von Photoresist bei Ultra-Feinleitern für SAP-Anwendungen. ResistStrip IC-1 ist, im Gegensatz zu seinem Vorgängerprodukt, ein einstufiger Resiststripper. Durch seine Formulierung wird das Quellen des Resists verhindert.

Hi-Flo Resist Filtration

Der neu entwickelte Atotech Hi-Flo Resist Filter kann mit jeder existierenden Resist Strip Anlage kombiniert werden.
Die angewandte Filtrationstechnik erhöht die Badstandzeit und verbessert die Prozesseffizienz und das Leistungsvermögen erheblich.

Die Hi-Flo Resist Filter sind mit allen Produkten der Atotech Resist Strip Serie kompatibel und bieten somit komplette Systeme zur Entfernung von Trocken- und Flüssigresisten.

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