Hi-Flo Resist Filtration

Das Atotech Resist Filtrationskonzept

Das patentierte System ist als manueller Einzelfilter, automatische Einzel- oder Doppeleinheit, und als neues “Total Filtration” System erhältlich. Ein System kann an alle Produktionssituationen angepasst werden.
 

Total Filtration System

Die neueste Entwicklung der Filterserie ist das vollautomatische Total Filtration System.
Bei diesem System wird die gesamte Striplösung beim Rücklauf von der Stripkammer in den Modulsumpf über eine Anzahl feiner, angewinkelter Siebe zwangsfiltriert. Dadurch wird sichergestellt, dass der gelöste Resist in kürzester Zeit vollständig aus der Prozesslösung entfernt wird.

Die patentierte Filtereinrichtung konzentriert den Resist im ersten Durchlauf zwischen schräg angeordneten Sieben. Anschließend fließt die Prozesslösung durch den Duo-Flo Filter. Das Maschensieb wird konstant von Sprüheinheiten gereinigt, um die gefilterten Resist Partikel abzuwaschen und in den Sammelbehälter zu überführen.
Das eingebaute Duo-Flo Filtrationssystem garantiert eine schnelle und vollständige Entfernung der Resist Partikel. Diese Filtertechnik ist momentan das effektivste Filtersystem für diese Anwendungen.