ResistStrip

Für gewöhnliche Anwendungen werden weitestgehend einfache alkalische Prozesslösungen zur Entfernung von Trocken- und Flüssigresist genutzt.
Als eines der Schlüsselunternehmen in diesem Bereich verfügt Atotech über ein großes Fachwissen bezüglich der Wirkungsweise und den Einflussfaktoren beim Fotoresist Strippen. Dieses Wissen hilft bei der Lösungen spezifischer  Anwendungen.

Normalerweise wird der Resist beim Stripvorgang stak gequollen. Die Resist Stripper von Atotech reduzieren diesen Effekt deutlich und verbessern dadurch das Stripergebnis bei Feinleitern und geringen Leiterbahnabständen.
Produkte aus Atotechs ResistStrip Serie werden schon seit langem weltweit in der industriellen Leiterplattenproduktion eingesetzt.

Die meisten unserer Produkte enthalten Kupferpassivierungen und Korrosionshemmer für Kupfer und Zinn.
Diese verhindern einen zu hohen Metallangriff und sorgen so für eine saubere, fleckenfreie Oberfläche.
Antischaumzusätze verhindern eine zu starke Schaumbildung in der Prozesslösung.

Dank einer großen Anzahl an Resist Strippern bieten wir Lösungen für sämtliche Anwendungen.

Eigenschaften und Vorteile

• Kein Angriff der Zinn- oder Zinnbleioberflächen
• Kontrolliertes Quellen des Resists, somit erhöht sich die Toleranz bei Leiterbahnüberbau
• Verbesserte AOI-Fähigkeit durch gleichmäßige, fleckenfreie Kupferoberflächen
• Verbesserte Ätzgenauigkeit, da keine Oberflächenoxidation oder Zinntransfer auftritt
• Maximaler Nutzen und verlängerte Standzeit der Prozesschemikalie
• Weniger Wasserverbrauch