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Sistemas Horizontales: InPulse 2 – El Sistema Convencional de Metalizado en continuo
InPulse 2 consiste en un sistema horizontal para el metalizado en contínuo de CI rígidos y flexibles así como de materiales ultradelgados de hasta 25µm con película de cobre de 9µm, e incluso para metalizado “Reel to Reel”. El nuevo sistema de pulsación de la corriente, permite el ajuste y control individualizado de cada segmento anódico por separado, lo que garantiza la mejor distribución posible de la superficie metalizada, con la mayor densidad de corriente de trabajo aplicable.
Los ánodos segmentados y las pinzas de sujeción de gran superficie de contacto garantizan la mejor distribución de espesores de la fina película de cobre depositada. El nuevo diseño de gestión del fluido, basado en estudios hidrodinámicos, garantiza una alta calidad de deposición de cobre, tanto en micro vías ciegas como en taladros.
Equipo Diseñado para Producción en Serie de Alta Tecnología
Las ventajas de los sistemas horizontales hacen que esta tecnología sea casi la opción exclusiva para instalaciones HDI desde hace unos años. En la actualidad se han entregado ya más de 500 módulos de cobreado a clientes de todo el mundo. La razón de que este sistema haya tenido tanta aceptación se hace evidente si se consideran los retos de la fabricación de circuitos complejos. Comparándolo con los sistemas verticales,,la tecnología horizontal ofrece una serie de ventajas, especialmente para las exigencias cada vez más estrictas de líneas más finas y vías más pequeñas
Las Siguientes Ventajas También Aumentan la Rentabilidad de los Sistemas Horizontales:
- Más compactos y ligeros: ahorro significativo en espacio de planta y en edificio
- No necesita bastidores: se eliminan los costes de limpieza y mantenimiento
- El empleo de ánodos insolubles elimina el tiempo improductivo de parada para mantenimiento de ánodos
- Aumenta la flexibilidad para ampliar y modificar sistemas
- Economía de la carga y descarga automática
- El alto nivel de automación reduce significativamente los errores de operación
- La menor demanda de aire, agua y tratamiento de residuos permiten un considerable ahorro energético y una reducción del impacto medioambiental.
- Mejora del MTBF (Tiempo Medio Entre Fallos) y MTTR (Tiempo Medio De Reparación)
- Sistema fiable, idealmente indicado para todo el espectro de necesidades productivas
- Capacidad para tratar material ultra fino con película fina de cobre de hasta 1 µm de grueso
- La producción en continuo “wet to wet” de la metalización y el cobreado Uniplate garantiza la productividad de HDI
- Densidad de corriente de hasta 12A/dm² en función del sustrato
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