Métallisation électrolytique cuivre à courant pulsé: Cuprapulse

Métallisation à courant pulsé pour une répartition du cuivre améliorée

Le courant pulsé est un outil « électrique » qui est utilisé pour l’optimisation des systèmes de métallisation, avec une phase anodique courte et périodique appliquée à la cathode, la direction du  courant est modifiée.
Durant l’impulsion anodique, la densité de courant est par exemple 2,5 - 3 fois plus élevée que durant la phase de déposition du cuivre. Il en résulte un effet de polarisation/ inhibition dépendant de la densité de courant local qui conduit à l’amélioration de l’uniformité des épaisseurs de cuivre, augmentant ainsi la pénétration dans les trous à hauts ratios.

Cuprapulse XP7

Le dernier développement pour la métallisation à courant pulsé d’Atotech présente les avantages suivants:

• Dépôt de cuivre avec d’excellentes propriétés
• Electrolyte très stable sans produits de dégradation
• Large plage de travail des additifs
• Peut être utilisé avec des paramètres inverses élevés pour une meilleure pénétration
• Bon pouvoir de pénétration et nivelance en fonction des paramètres de courant
• Le dépôt de cuivre peut être mat avec des grains fins jusqu’à semi brillant suivant les paramètres de courant utilisés