
Технология межслойных переходов высокоплотных схем
Поскольку печатные платы стали использоваться повсюду, значительно возросла сложность и плотность предлагаемых межслойных переходов. Использование плат ПО микросхем продолжает ежегодно расти, т.к. оно увеличивает плотность межслойных переходов печатных плат, миниатюризацию и электрическую эффективность.
Эта тенденция является результатом потребности в возросшей эффективности плат ПО микросхем в производстве мобильных телефонов, перевернутых кристаллов субстратов ИС и других применениях. Например, межслойные переходы, которые были шириной 1мм, теперь предлагаются шириной 0, 25мм и меньше, 150µm и меньше. Традиционная технология печатных плат все еще способна удовлетворять многим запросам, однако, многие из этих технологий сталкиваются с более высокими требованиями. Эти тенденции имеют следствием более высокую надежность, более тонкие трассы, меньшие отверстия ПО и, в конечном счете, более высокую плотность монтажа.
Поэтому, возрастающий спрос на дальнейшую миниатюризацию и высокую плотность межслойных переходов способствует возрастанию спроса на платы с ультра-высокоплотными межслойными переходами. При все более расширяющемся рынке такой продукции, как мобильные телефоны, цифровые камеры и устройства PDA, каждое новое применение приносит с собой новые требования для производства все более легких и миниатюрных корпусов. Производство ПО микросхем увеличивается с каждым годом, что вызвано возрастающими требованиями со стороны изготовителей мобильных телефонов, ПК и ИС. Ожидается, что этот рост в 2008 году составит 5% и приведет к глобальному развитию применений ПО микросхем примерно на 10 млрд.долларов в этом году.
Будучи технологическим лидером в высококачественном сегменте рынка, Atotech может предложить несколько инноваций для производства высокоплотных межслойных переходов и кристаллодержателей.
Применение новых технологий и решений – главная цель компании Atotech и всех наших сотрудников во всем мире. Используя наши знания в поддержке производства высокосложных печатных плат с высокоплотными межслойными переходами для телекоммуникационной отрасли, Вы всегда можете связаться с нами для обсуждения наших процессов и производственных технологий для Ваших специальных нужд.
Читать подробнее на наших страницах:
- Ведущие технологии очистки ПО от отходов сверления
- Горизонтальное химическое меднение для межслойных переходов высокоплотных схем
- Вертикальное химическое меднение для межслойных переходов высокоплотных схем
- Прямое нанесение покрытия для межслойных переходов высокоплотных схем
- Конформное нанесение покрытия на сквозные отверстия наполнением глухих ПО микросхем
- Горизонталзное импульсное нанесение покрытия для наполнения сквозных отверстий
- Горизональное импульсное нанесение покрытия для наполнения глухих ПО ИС
- Усилитель адгезии паяльной маски для максимальной эффективности
- Покрытие, заменяющее оксидное, для технологий получения схем с прямым сверлением лазером
- Покрытие из химического никеля/иммерсионного золота со средним P в качестве финишного покрытия для большого объема ENIG
- Процесс химникель/иммерсионное золото с высоким P в качестве финишного покрытия для нанесения вторичной схемы
- Процесс химникель/иммерсионное золото, не требующий проработки при запуске и применяемый для финишного покрытия межслойных переходов высокоплотных схем
- Лаки для нанесения вторичной схемы для промежуточной защиты по время металлизации химическим никелем/иммерсионным золотом
- Снимающиеся паяльные маски
- Наполнители для сквозных металлизированных отверстий или наполнения ПО
- Маркировочная краска
- Усиленная / медная фольга, покрытая смолой для улучшенных корпусов
