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Nichem® MP 1188

中磷化学沉镍工艺

不含铅和镉

符合ELV, RoHS和WEEE 欧盟指令的全部要求

高效率

为镀液可在极低装载量下进行生产而设计的

中磷

磷含量5 – 8%, 镀态硬度达到550 – 650 HV0.1

Electroless nickel development

  • 不含铅和镉 (符合ELV, RoHS和WEEE欧盟指令)
  • 操作窗口宽
  • 在低的装载量条件下容易起镀
  • 在高装载量条件下镀液稳定性高
  • 在黄铜及铜合金材料表面具有极好的起镀能力
  • 对锌杂质的容忍度特别高
  • 适用于多种基材
  • 一致的光亮度
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  • 汽车工业
  • 连接器
  • 石油及天然汽工业

Nichem® MP 1188

可满足极低装载量条件下生产的高效中磷化学沉镍工艺

 

Nichem® MP 1188 是安美特推出的一种全光亮且符合ELV, RoHS和WEEE 欧盟指令的中磷化学沉镍工艺, 既能满足最高的产能需求,亦能提供弹性, 可适用于不同装载量和多种基材的生产 – 一种全合一工艺!


Nichem® MP 1188 是特别为镀液可在极低装载量下进行生产而设计的工艺. 此工艺在黄铜及铜合金材料表面具有极好的起镀能力. 另外一个亮点是镀液对锌杂质有高容忍度, 因此在延长化学镍槽液寿命的同时, 沉锌后可直接做化学沉镍而不会牺牲其光亮度或结合力. 具有pH自调节功能使镀液维护变得简单.

Nichem® MP 1188 工艺磷含量5 – 8%, 镀层镀态硬度达到550 – 650 HV0.1. 此工艺在整个槽液寿命中镀层光亮度保持一致和适用于许多不同的金属基材. 镀层完全不含铅和镉, 符合ELV, RoHS和WEEE 欧盟指令的全部要求.

是什么启发我们

为什么我们要开发 Nichem® MP 1188

面临的挑战

现在化学沉镍的需求很大, 应用范围很广, 从高产量的汽配生产到低产量的一般电镀加工车间. 一般生产线化学沉镍工艺是专门用于加工一种产品. 而一种新的工艺应能满足各样需求且可以适用于不同装载量和多种基材上.

解决方案

Nichem® MP 1188 是一种全光亮中磷化学沉镍工艺, 能满足最高的产能需求. 亦能提供弹性, 可适用于不同装载量和多种基材的生产. 例如, 在黄铜及铜合金材料表面具有极好的起镀能力. 另外, 镀液对锌杂质有高容忍度, 因此在延长化学镍槽液寿命的同时, 沉锌后可直接做化学沉镍而不会牺牲其光亮度或结合力.

Nichem® MP 1188

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